巖征儀器光?微波?超聲三場耦合反應釜

描述：巖征儀器光?微波?超聲三場耦合反應釜，其應用主要面向光催化、微波加熱、超聲空化、熱場調控與氣液固多相反應協同的科研小試場景。

廠商性質
生產廠家
更新時間
2026-09-29
訪問量
123

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品牌	巖征儀器	產地類別	國產
應用領域	化工,生物產業,制藥/生物制藥,綜合,半導體

巖征儀器光?微波?超聲三場耦合反應釜，其應用主要面向光催化、微波加熱、超聲空化、熱場調控與氣液固多相反應協同的科研小試場景。

主要應用

表格

應用方向	典型場景	裝置價值
多場協同催化研究	光?微波?超聲協同催化、光熱催化、聲光催化	可同步引入光、微波、超聲與熱場，便于研究多場協同效應
新能源與綠色能源	CO?轉化、水分解相關催化探索、合成氣/甲烷活化	密閉高壓提升氣體溶解與界面接觸效率
材料與催化劑研發	納米材料合成、催化劑篩選、電極材料評價	微波體加熱、超聲分散與光照協同改善成核與分散
化工與精細化工	加氫、氧化、酯化、縮合、聚合等小試	支持高溫高壓、多相體系與復雜介質
環境與污染治理	VOCs降解、有機污染物氧化、難降解廢水/廢氣處理	光、微波、超聲協同促進活性物種生成與傳質強化
工藝條件篩選	光功率、微波功率、超聲功率、溫度、壓力、攪拌、氣氛優化	便于在統一平臺上完成多因素參數對比

巖征儀器光?微波?超聲三場耦合反應釜，核心優勢

1. 光?微波?超聲多場協同能力較強
可在高壓釜式平臺上集成光源模塊、微波模塊、超聲模塊、加熱控溫、攪拌、溫壓和氣氛控制等模塊，適用于光催化、微波催化、超聲催化及其多場耦合研究。

2. 高壓密閉結構，適配氣體參與反應
巖征儀器高壓釜產品線常規壓力可選10MPa、20MPa、30MPa，設計壓力可達150bar，使用壓力≤100bar，適合CO?、H?、N?、CH?、O?等氣體參與的密閉反應。

3. 磁耦合攪拌，密封可靠性較高
采用磁耦合攪拌技術，傳動部分無機械接觸，部分型號無需冷卻水即可在較高溫度下穩定運行，適合高粘度物料和長時間反應。

4. 材質與容積可按介質定制
標準材質為316L不銹鋼，可根據腐蝕性介質定制哈氏合金、鈦材、鋯材、蒙乃爾合金、內襯四氟等；容積覆蓋微量至中試級別，便于從催化劑篩選向工藝驗證延伸。

5. 智能控制與數據可追溯
配備彩色觸摸屏，可實時顯示溫度、壓力、轉速等參數；支持數據記錄、曲線生成和報表導出，部分型號支持RS485通訊與上位機軟件，有利于實驗復盤。

6. 多重安全防護，降低操作風險
具備超溫超壓報警、安全聯鎖、爆破片/泄壓裝置等防護機制；釜體與加熱器可分離，配合快擰或快速開合結構，便于清洗、維護和頻繁更換樣品。

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巖征儀器光?微波?超聲三場耦合反應釜

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